신규 장비 도입 및 오픈
가. 유도결합플라즈마식각장치
ICP Etcher
2023년 10월 오픈
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Maker. Oxford Instrument
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Model. Plasma Pro 80cobra65
<활용분야>
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유전체 etching
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SiO2 반도체 etching
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Silicon Bosch 및 Cryo-etch 공정
나. 주사전자현미경
FE-SEM
2023년 12월 오픈
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Maker. HITACHI
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Model. SU8700
<활용분야>
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0.6nm/15kV, 0.8nm/1kV의 2차전자 분해능으로 고해상도 표면관찰
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65mm EDS를 통한 시료의 정성 및 정량분석
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저진공 검출기(UVD)를 통한 수분함유 시료관찰(식품, 바이오) 및 철강 등의 자성재료 관찰
다. 퓨리에변환 적외선 분광기
FT-IR
2024년 03월 오픈
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Maker. Thermo Scientific
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Model. Nicolet iS50
<활용분야>
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물질의 구조 확인
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반응 속도 및 반응 과정 연구
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유기 이물, 불량 분석 및 약물 분석
라. 플라즈마 화학기상 증착장비
PECVD
2024년 03월 오픈
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Maker. ㈜티티엘
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Model. FAB Star-P-1-6
<활용분야>
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플라즈마 에너지를 이용하여 비교적 저온에서의 SiOx 박막 증착
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높은 증착 속도와 균일한 박막 형성
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반도체/디스플레이 소자 제작에서 SiOx 박막을 활용한 절연막 및 보호막 형성
마. Maskless Photolithography
2024년 04월 오픈
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Maker. Nanosystem Solution
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Model. DL-2500HPA2
<활용분야>
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포토 마스크 없이 기판 위에 미세 패턴 구현이
가능한 리소그래피 -
반도체/디스플레이 소자에서 최소 1um 선폭의 레지스트 패턴 제작
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375nm 파장에서 반응하는 감광액을 적용한
패터닝 공정
국민대학교 공동기기원
서울특별시 성북구 정릉로 77 (정릉동, 국민대학교) 국민대학교 산학협력관 406호 공동기기원